失效剖析 赵工 半导体工程师 2024年12月14日 09:44 北京

  半导体光刻胶是出产分立器材、LED、集成电路等产品的要害资料，它经过缩短曝光波长来提高极限分辨率，以此来完成集成电路的高密度集成。根据曝光波长的不同，半导体光刻胶被细分为多个品类，包含紫外宽谱（波长为300-450纳米）、g线纳米）、i线.5纳米）光刻胶以及电子束光刻胶等。

  全球光刻胶商场呈现出高度集中的态势，核心技能主要由日本、美国等世界大公司所把握。在这一些企业中，合成橡胶（JSR）、东京应化、信越化学、住友化学、富士胶片、杜邦等领军企业占有了全球半导体光刻胶商场的大部分比例，特别是在高端技能范畴具有明显优势。尽管我国的上海新阳、彤程新材、徐州博康、晶瑞电材等企业在某些低端光刻胶范畴取得了必定效果，但在高端干膜光刻胶方面，因为技能壁垒较高且工业链起步较晚，其国产化率仍然较低。据职业多个方面数据显现，现在g线%，I线光刻胶的国产化率也约为20%，而KrF光刻胶的国产化率缺乏5%，ArF光刻胶的国产化率更是低于1%。

  从商场散布来看，日本厂商在光刻胶职业中占有主导地位，尤其是在KrF、ArF、ArFi及EUV等高端光刻胶技能的量产上体现杰出。美国的杜邦和德国的默克同样在全球商场中占了重要方位，尤其在高端光刻胶范畴具有明显技能优势。我国光刻胶工业虽在追逐，但在G/I、KrF、ArF范畴已开始具有量产才能，而EUV和高端ArFi光刻胶范畴则仍处于研制或验证阶段。

  跟着AI、HPC需求的增加，以及手机、PC、轿车等商场的部分回暖，半导体工业迎来了新的开展机会，半导体用光刻胶商场规模也将随之扩展。在此布景下，我国政府分外的注重半导体与质料工业的开展，出台了一系列政策措施，旨在推进光刻胶职业的研制和出产，加快核心技能国产化进程。

  面临原资料本钱高、出产的根本工艺杂乱、核心技能依靠进口、质量不稳定等应战，以及国产化需求的日益增强，国内光刻胶企业正活跃寻求打破，努力提高自给率，推进工业向高端化跨进。一起，上下游企业间的协作将愈加严密，加强研制工业链整合，一起应对商场应战。展望未来，我国光刻胶工业充溢无限或许，开展前途广阔。

  半导体职业动态，半导体经历共享，半导体效果沟通，半导体信息发布。半导体训练/会议/活动，半导体社群，半导体从业者职业规划，芯片工程师生长进程。回来搜狐，检查愈加多